由于等離子體是一種高活性、高能量的物質(zhì)集合，表面等離子處理設(shè)備價(jià)格等離子體表面清洗活化，主要是利用等離子體中的高活性物質(zhì)、高能粒子以及紫外線輻射，作用于聚合物材料表面，使其表面發(fā)生物理或化學(xué)變化。根據(jù)等離子體的不同，所發(fā)生的反應(yīng)也會(huì)不同，有時(shí)僅僅發(fā)生材料表面的物理變化；高能粒子轟擊材料表面，在材料表面產(chǎn)生凹凸不平的斑點(diǎn)，改變其粗糙度，或者將能量 傳遞給表面基團(tuán)，使其活化，引起表面能的改變。

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表面等離子處理設(shè)備價(jià)格

由于鏡片使用時(shí)間延長(zhǎng)，板腺分泌的油脂增多，淚液中的蛋白質(zhì)含量增加，眼鏡的排異反應(yīng)等諸多因素，鏡片表面會(huì)產(chǎn)生一定的雜質(zhì)，形成脂類沉積，蛋白質(zhì)沉積，生物膜沉積等，使鏡片透氧性、透明性及佩戴舒適度下降，有異物感，感覺明顯不適，更有甚者還會(huì)導(dǎo)致眼睛感染和炎癥。

例如小型和微型部件的精密清洗；在膠結(jié)、上漆之前對(duì)塑料部件進(jìn)行活化；蝕刻和去除部分諸如聚四氟乙烯，光刻膠等之類的各種材料；對(duì)疏水性和親水性涂層、減摩擦涂層等的部件進(jìn)行噴涂處理。 等離子清洗不需化學(xué)試劑，無(wú)廢液；等離子清洗可處理金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料；等離子設(shè)備可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的精細(xì)清洗；等離子體工藝易控制，可重復(fù)，便于自動(dòng)化。

表面等離子處理設(shè)備等離子體去膠的優(yōu)點(diǎn)是去膠操作簡(jiǎn)單，去膠效率高，表面清潔光潔，無(wú)劃痕，成本低，環(huán)保。 表面等離子處理設(shè)備等離子體去膠采用性能優(yōu)良的部件和軟件，可以輕易控制工藝參數(shù)，其過(guò)程監(jiān)測(cè)和數(shù)據(jù)采集軟件可以實(shí)現(xiàn)嚴(yán)格的質(zhì)量控制，此技術(shù)已獲得成功。適用于功率晶體管，模擬器件，傳感器，光學(xué)器件，光電器件，電子器件，MOEMS，生物器件，LED等領(lǐng)域。

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