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被清除的污染物可能有有機物、環(huán)氧樹脂、光刻膠、氧化物、微顆粒污染物等，廣東銷售等離子清洗機腔體廠家現(xiàn)貨所以射頻等離子清洗是一種高精密清洗。 就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程： （1）無機氣體被激發(fā)到等離子態(tài)； （2）氣相物質被吸附在固體表面； （3）被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子； （4）產(chǎn)物分子解析形成氣相； （5）反應殘余物脫離表面。 通過以下幾個反應式及圖1、圖2和圖3對清洗方式做詳細說明。
